Ausführung
Berlin
Ein FIB‑SEM Dual‑Beam‑System wird beschafft, installiert und am Aufstellungsort vermessen, um Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts‑ und Oberflächenanalysen von III/V‑Halbleitern, LNOI, Polymeren und Resist‑Prozessprodukten durchzuführen.
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Ein FIB‑SEM Dual‑Beam‑System wird beschafft, installiert und am Aufstellungsort vermessen, um Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts‑ und Oberflächenanalysen von III/V‑Halbleitern, LNOI, Polymeren und Resist‑Prozessprodukten durchzuführen.