Ausführung
Thüringen
Ausschreibung
Plasma‑unterstützte Atomlagenabscheidungsanlage (PE‑ALD) für Dünnschichtabscheidung, Thüringen - Frist 25.08.2026
Das Leibniz‑Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt eine PE‑ALD‑Anlage zur reproduzierbaren Abscheidung leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Dünnschichten auf Substraten von Einzelchips (5 × 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer, inklusive Steuer‑PC mit Software‑Lizenzen und Windows 11.
Frist
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Leistungsbeschreibung
Das Leibniz‑Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt eine PE‑ALD‑Anlage zur reproduzierbaren Abscheidung leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Dünnschichten auf Substraten von Einzelchips (5 × 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer, inklusive Steuer‑PC mit Software‑Lizenzen und Windows 11.
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Keywords
atomlagenabscheidungdünnschichtabscheidungpe-aldplasmasoftwarewafer
Id: 369aaa3d-aeb4-4d0d-aedd-3e3b21bd2bac